協賛:一般社団法人 日本半導体製造装置協会(SEAJ)
SEMI
一般社団法人 日本電子デバイス産業協会(NEDIA)
2017年12月13日(水)TFTビル 東館 9-A会議室
2017年12月13日(水)に開催された、ISSM戦略フォーラム2017には、会場が満席となる120名様にご参加を頂きました。レガシーファブの生産性効率に焦点を当て、トップアナリスト、半導体メーカー、製造装置メーカーの方々からのご講演に加え、パネルディスカッションが展開されました。
ISSMは2018年、本会合を日本で開催いたします。2018年12月10日(月)~11日(火)、両国のKFCホールで開催されます。論文締切は2018年8月下旬を予定しております。生産技術の神髄を語る国際学会、ISSMに奮って論文のご応募をお願い申し上げます。
アナログ・センサ・通信などIoT関連や、多数のセンサを搭載した自動運転車、多機能スマートフォンなどに牽引され、 長期低落へ向かうと思われていた200mmファブの需要が復活しつつあります。DRAM全盛時代に建設された200mm以下のファブが世界で一番多く残存している日本では、生産技術的な延命や大量多品種対応の生産システムでこの波を維持するのかで、岐路に立っています。 この戦略フォーラムでは、レガシーファブの生産技術革新の観点からその活用可能性を議論します。6,8インチファブの経営方針に関わる技術責任者、技術企画部門技術者(ファブ戦略の立案、装置技術、プロセス技術)の方には見逃せないフォーラムです。